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    石墨烯工艺免费培训通知

    单层石墨烯CVD生长,PMMA法转移和拉曼表征


    萨本栋微纳研究院计划于3月7日(周二)进行石墨烯CVD生长的操作培训,欢迎各课题组踊跃参加。


    CVD培训配图.jpg

    (a) ET2000 CVD设备外形; (b) iDSpec拉曼光谱仪外形;

     (c) 扫描电镜下转移至氧化硅片上的石墨烯形貌; (d) 转移至氧化硅片上的石墨烯拉曼光谱;


    培训时间:2017年3月7日(8:00-18:00)

    培训地点:思明校区亦玄馆302(8:00-9:00 理论综述)和洁净室(工艺)

    培训内容:EasyTube 2000(First Nano公司)化学气相沉积设备的操作、PMMA法石墨烯转移工艺、石墨烯拉曼光谱法检测。

    气相沉积方法生长的石墨烯单层性好、覆盖率高、晶粒较大,适合在铜箔或镍片等金属衬底上生长,也可以开发在MgO、SiO2等基底上生长的工艺。本设备控制系统精密、自动化程度高、工艺参数范围较广,可放入基片最大尺寸~6x15 cm。

    报名方式:请于3月6日前发送邮件至 jqcui@xmu.edu.cn报名(姓名、课题组、院系、联系方式)。因洁净室内空间有限,且为保证培训质量,工艺培训初步限定在20人,每课题组至多2人。如感兴趣的课题组>20,可能将限制每课题组1人,造成的不便还请谅解。

     

    备注:因需要进洁净室,请着装适宜,无化妆,长头发扎起,尽量穿厚袜子。


     

    发布时间:2017/3/1 10:06:20  浏览次数: