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    电子束光刻(EBL)免费培训通知

    萨本栋微纳研究院院计划于2月21日进行Electron Beam Lithography电子束曝光技术的操作培训。包括由Zeiss SUPRA 55 扫描电子显微镜和Raith ELPHY Quantum图形发生器组成的扫描电子束曝光系统的操作培训,PMMA电子束光刻胶的曝光工艺和显影工艺培训。

    电子束曝光技术是一种日益完善的超微细图形加工技术,可以在基片上进行无掩膜直接曝光,具有极高的灵活性,可制作最小尺寸30-100 nm的图形,因此是研制各种超微细结构纳米器件的有力工具。

    欢迎各位师生踊跃参加,请于2月19日前发送邮件至 zhengll@xmu.edu.cn报名。

    培训时间:2017年2月21日(14:00-18:00)

    培训地点:翔安校区文宣楼B504和C107室

    培训内容:EBL原理介绍、扫描电子束曝光系统的操作培训,PMMA电子束光刻胶的曝光工艺和显影工艺培训。

     

    发布时间:2017/2/17 15:34:16  浏览次数: